一、化學機械拋光(CMP)簡介化學機械拋光（ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP）技術是一種依靠化學和機械的協同作用實現工件表面材料去除的...
同花順（300033）金融研究中心06月05日訊，有投資者向三超新材（300554）提問，公司CMP-Disk產品可以用于幾納米芯片？公司回答表示，您好！子公司江蘇三晶...
化學機械拋光（CMP）金剛石圓盤修整器是一種用于修整金剛石圓盤的設備，主要用于金剛石圓盤的表面修整和磨損均勻化。...
項目概況廣東中科半導體微納制造技術研究院化學機械拋光機采購項目招標項目的潛在投標人應在廣東省政府采購網https...
項目概況東南大學微納系統國際創新中心12寸化學機械拋光機采購招標項目的潛在投標人應在微信公眾號“蘇美達達天下”獲取招標文件，并于2024年12月10日09點30分（北京...
在半導體制造這個高度精密且復雜的領域中，CMP（化學機械拋光）技術宛如一顆隱匿于幕后的璀璨明珠，雖不被大眾所熟知，卻在芯片制造的進程中扮演著不可或缺的關鍵角色。今天，就...
項目概況國家納米科學中心化學機械拋光設備競爭性磋商采購項目采購項目的潛在供應商應在www.oitccas.com...
化學機械拋光（CMP）是一種超精密的表面加工技術，其通過化學腐蝕和機械磨削的雙重耦合作用，來實現工件表面納米級的局部或全局平坦化。在CMP過程中，磨料作為機械作用和化學...
碳化硅(SiC)材料具有尺寸穩定性好、彈性模量大、比剛度大、導熱性能好和耐腐蝕等性能，在現代工業領域應用廣泛：在半導體領域，利用其具有禁帶寬度、擊穿場強高和導熱性良好等...
CMP全稱為ChemicalMechanicalPolishing，即化學機械拋光，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術，借助超微離子研磨作用以及漿料的化學腐蝕作用在被研磨的...
申請號:201710082541.7申請日:2017.02.16國家/省市:中國河南(41)公開號:106811751A公開日:2017.06.09主分類號:C23F3...
摘要 化學機械拋光（ＣＭＰ）已成為公認的納米級全局平坦化精密超精密加工技術。拋光液在ＣＭＰ過程中發揮著重要作用。介紹了ＣＭＰ過程中拋光液的作用的研究進展，綜合歸納了拋光...
3月28日，中國超硬材料網市場總監劉小雨、市場經理高峰一行走...
公元1278年，此時的南宋就如零丁洋里的一片到處漏水的孤舟，...
2023年9月20日，時隔四年，期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業的快速發展，加強國內外企業的交流與合作。
1963年，我國成功研制出第一顆人造金剛石，經過幾代人的拼搏奮斗，實現了從無到有、從小到大、從弱到強的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國航空航天、國防軍工、機床機械等領域發揮著愈發重要的作用。不僅如此，隨著金剛石技術的選代，金剛石民用領域—培育鉆石迎來了自己的大爆發，中國占據了世界培育鉆石產量的80%以上，近幾年在國際上產生了巨大影響力。
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