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一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術

一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術
一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術
一文了解芯片化學機械拋光(CMP)技術

一、化學機械拋光(CMP)簡介化學機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)技術是一種依靠化學和機械的協同作用實現工件表面材料去除的...

日期 2025-06-26   
解密拋光墊溝槽:化學機械拋光的 “隱形引擎”???

解密拋光墊溝槽:化學機械拋光的 “隱形引擎”???

在半導體制造、精密光學等尖端領域,化學機械拋光(CMP)是實現材料表面原子級平整的關鍵工藝。而在這一精密過程中,...

日期 2025-06-20   

江蘇三晶的CMP-Disk是化學機械拋光過程中的重要耗材,適用于所有精度的半導體芯片制造過程中拋光墊的修整

同花順(300033)金融研究中心06月05日訊,有投資者向三超新材(300554)提問,公司CMP-Disk產品可以用于幾納米芯片?公司回答表示,您好!子公司江蘇三晶...

日期 2025-06-06   
全球化學機械拋光金剛石圓盤修整器行業2025市場規模有望突破25億美元

全球化學機械拋光金剛石圓盤修整器行業2025市場規模有望突破25億美元

化學機械拋光(CMP)金剛石圓盤修整器是一種用于修整金剛石圓盤的設備,主要用于金剛石圓盤的表面修整和磨損均勻化。...

日期 2025-02-10   
全面剖析:化學機械拋光技術(CMP)的深度探索

全面剖析:化學機械拋光技術(CMP)的深度探索

在半導體制造這一高度精細且復雜的領域里,CMP(化學機械拋光)技術就像是一顆默默閃耀在后臺的璀璨寶石,盡管不為普...

日期 2024-12-31   
廣東中科半導體微納制造技術研究院化學機械拋光機采購項目招標公告

廣東中科半導體微納制造技術研究院化學機械拋光機采購項目招標公告

項目概況廣東中科半導體微納制造技術研究院化學機械拋光機采購項目招標項目的潛在投標人應在廣東省政府采購網https...

日期 2024-12-06   

東南大學微納系統國際創新中心12寸化學機械拋光機采購項目招標公告(第二次)

項目概況東南大學微納系統國際創新中心12寸化學機械拋光機采購招標項目的潛在投標人應在微信公眾號“蘇美達達天下”獲取招標文件,并于2024年12月10日09點30分(北京...

日期 2024-11-20   

深入探索 CMP:化學機械拋光技術的全方位解讀

深入探索 CMP:化學機械拋光技術的全方位解讀
深入探索 CMP:化學機械拋光技術的全方位解讀
深入探索 CMP:化學機械拋光技術的全方位解讀

在半導體制造這個高度精密且復雜的領域中,CMP(化學機械拋光)技術宛如一顆隱匿于幕后的璀璨明珠,雖不被大眾所熟知,卻在芯片制造的進程中扮演著不可或缺的關鍵角色。今天,就...

日期 2024-09-14   
國家納米科學中心化學機械拋光設備競爭性磋商采購項目競爭性磋商

國家納米科學中心化學機械拋光設備競爭性磋商采購項目競爭性磋商

項目概況國家納米科學中心化學機械拋光設備競爭性磋商采購項目采購項目的潛在供應商應在www.oitccas.com...

日期 2024-09-09   

化學機械拋光(CMP)中常用的磨料

化學機械拋光(CMP)中常用的磨料
化學機械拋光(CMP)中常用的磨料
化學機械拋光(CMP)中常用的磨料

化學機械拋光(CMP)是一種超精密的表面加工技術,其通過化學腐蝕和機械磨削的雙重耦合作用,來實現工件表面納米級的局部或全局平坦化。在CMP過程中,磨料作為機械作用和化學...

日期 2024-08-06   

碳化硅晶片的化學機械拋光技術

碳化硅晶片的化學機械拋光技術
碳化硅晶片的化學機械拋光技術
碳化硅晶片的化學機械拋光技術

碳化硅(SiC)材料具有尺寸穩定性好、彈性模量大、比剛度大、導熱性能好和耐腐蝕等性能,在現代工業領域應用廣泛:在半導體領域,利用其具有禁帶寬度、擊穿場強高和導熱性良好等...

日期 2024-01-25   
半導體行業中的化學機械拋光(CMP)技術詳解

半導體行業中的化學機械拋光(CMP)技術詳解

20世紀60年代以前,半導體基片拋光還大都沿用機械拋光,得到的鏡面表面損傷是極其嚴重的。1965年Walsh和H...

日期 2023-08-02   
藍寶石在化學機械拋光過程中的材料去除機理

藍寶石在化學機械拋光過程中的材料去除機理

藍寶石材料經過長晶、掏棒、切割、研磨、拋光等加工工藝后達到所需的表面效果,拋光是藍寶石加工的最后一道工序,決定著...

日期 2023-05-26   

60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成

60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成
60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成
60秒看懂化學機械拋光(CMP)優勢和構成

CMP全稱為ChemicalMechanicalPolishing,即化學機械拋光,是機械削磨和化學腐蝕的組合技術,借助超微離子研磨作用以及漿料的化學腐蝕作用在被研磨的...

日期 2023-01-10   

半導體用化學機械拋光漿料產業調研

半導體用化學機械拋光漿料產業調研
半導體用化學機械拋光漿料產業調研
半導體用化學機械拋光漿料產業調研

化學機械拋光,縮寫為CMP,目前已成為公認的納米級全局平坦化精密超精密加工技術。是半導體制造過程中最重要的環節之一。圖1大硅片生產工藝CMP拋光漿料,又稱CMP漿料、拋...

日期 2018-07-10   

一種304不銹鋼化學機械拋光用拋光劑和拋光液及其制備方法

申請號:201710082541.7申請日:2017.02.16國家/省市:中國河南(41)公開號:106811751A公開日:2017.06.09主分類號:C23F3...

日期 2017-06-26   
首臺國產12英寸化學機械拋光機交付

首臺國產12英寸化學機械拋光機交付

集成電路領域的高端裝備國產化進程又進一步。記者從清華控股有限公司獲悉:由清華大學科技成果成功轉化的國內首臺12英...

日期 2015-08-12   

化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展

化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展
化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展
化學機械拋光過程拋光液作用的研究進展

摘要 化學機械拋光(CMP)已成為公認的納米級全局平坦化精密超精密加工技術。拋光液在CMP過程中發揮著重要作用。介紹了CMP過程中拋光液的作用的研究進展,綜合歸納了拋光...

日期 2012-04-28   

不銹鋼制品的機械拋光

不銹鋼制品的機械拋光
不銹鋼制品的機械拋光
不銹鋼制品的機械拋光

■賀獻寶/文不銹鋼以其優良的耐腐蝕性能,良好的力學性能和加工性能及較好的焊接性能,成為被廣泛選用的工程材料。同時,通過不同的拋光加工方法,可以使各種不銹鋼板材、管材、棒...

日期 2012-01-10   
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第六屆磨料磨具磨削展覽會暨2023金剛石產業大會

第六屆磨料磨具磨削展覽會暨2023金剛石...

2023年9月20日,時隔四年,期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業的快速發展,加強國內外企業的交流與合作。

中國人造金剛石誕生60周年

中國人造金剛石誕生60周年

1963年,我國成功研制出第一顆人造金剛石,經過幾代人的拼搏奮斗,實現了從無到有、從小到大、從弱到強的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國航空航天、國防軍工、機床機械等領域發揮著愈發重要的作用。不僅如此,隨著金剛石技術的選代,金剛石民用領域—培育鉆石迎來了自己的大爆發,中國占據了世界培育鉆石產量的80%以上,近幾年在國際上產生了巨大影響力。

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